派瑞伦镀膜-拉奇纳米-硅胶派瑞伦镀膜

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。

真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，金属派瑞伦镀膜，带正电的离子撞击阴极，硅胶派瑞伦镀膜，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

真空蒸发镀膜设备用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品外表蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩薄仿金膜等，然后取得亮光、漂亮、；价廉的塑料，陶瓷外表金属化制品。广泛使用于轿车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装修、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等范畴。

一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂，派瑞伦镀膜，均可在工件上得到均一镀层，其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理，包括金属、半导体及非金属。

真空镀膜加工的基本技能要求

5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜资料的利用率，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。

6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。

7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。

8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电设备，维持作业稳定。