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真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类。

真空镀膜设备膜层色泽不均：(1)底漆喷涂得不均匀。应改进底漆的施涂方法。(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度。真空镀膜设备膜层发皱、龟裂：(1)底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。镀膜技术在飞机防护涂层方面的应用飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。(2)涂料的粘度太高。应适当降低。(3)蒸发速度太快。应适当减慢。(4)膜层太厚。应适当缩短溅射时间。(5)镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间。

真空镀膜设备膜层附着力不良：(1)镀件除油脱脂不干净。应加强镀前处理。(2)真空室内不清洁。应清洗真空室。值得注意的是，在装靶和拆靶的过程中，严禁用手或不干净的物体与磁控源接触，以保证磁控源具有较高的清洁度，这是提高膜层结合力的重要措施之一。(3)夹具不清洁。应清洗夹具。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。(4)底涂料选用不当。应更换涂料。(5)溅射工艺条件控制不当。应改进溅射工艺条件。