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真空镀膜的方法

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。采用方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。

派拉纶它可以涂层到各种形状的表面，在盐雾、霉菌、潮湿、腐蚀性等恶劣环境中有很好的隔离防护功能。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

真空镀膜的薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。

随着科技和经济的提升，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加，其功能也越来越好。是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜。

电路板镀膜材料

在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀。电路板镀膜材料

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