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真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料。真空镀膜可以使原料具有许多新的、好的物理和分析化学特征。超声波化学气相沉积

真空镀膜是应用物理分析化学方法，提高产品质量、提高产品使用期限。根据效果和基础表层的化学变化，在基础上制作金属材料和化学物质塑料薄膜的方式。超声波化学气相沉积

真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。

真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。

虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是绿色环保工艺;对操作者无伤害。