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国内外实践证明，大功率电子***是钢带连续真空镀膜工艺的理想热源。这是因为

（1）电子***发射的电子束经聚焦后可达到极高的能量密度，轰击坩埚镀膜材料，可使其温度达到3000℃以上，远比电弧温度高。

（2）电子束能量转化率高达80%-90%，采用磁偏转系统可以方便地进行电子束聚焦和扫描，加热均匀。

（3）电子束只轰击镀膜材料表面，不会由于其它材料的掺入而引起夹杂问题。

（4）电子***蒸发镀膜机使用时的束斑直径、电功率、加束电压、扫描轨迹、频率等参数都容易实现调节。

（5）使用电子***还可以在钢带镀膜生产过程中对被镀钢带进行真空预热，就是使用电子***清洁钢带，轰击表面使其活化。通过电子束不停的扫描，钢带表面温度控制在200~550℃，这种预热是钢带镀膜和提高镀膜附着力所必须的。

高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。镀材范围广，由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

镀材范围广，由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。不像五金电镀加工由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材，而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的商品。

高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。高真空离子镀，又称高真空镀膜加工。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法，做出来的商品金属质感强，表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，可选择原料种类多，这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。Parylene具有优异的尺寸稳定性和低温性能，在几乎不改变器件尺寸的情况下提供1。