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台湾手机真空镀膜设备***出众

发布时间:2020-11-15 19:22:00        作者:拉奇纳米镀膜







多弧离子PVD镀膜设备  

腔体结构:  立式前开门,卧式前开门,后置真空获得系统  

材质用料:  腔体采用SUS304不锈钢材质  

离子弧源:  依据设备大小不同配备多套弧电源系统  

偏压电源:  配备大功率单级脉冲偏压电源  

多弧靶材:  标配多套钛靶或不锈钢靶材  

转动系统: 变频调速,公自转结合,可采用上传动或下传动方式  

真空系统(装饰镀膜设备Decorative coating):扩散泵(可选分子泵)+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统(可选)




真空镀膜机光学加工工艺发展情况及未来趋势,中国的光学镀膜零件冷加工在中华民国时期是非常稀少的,到二十世纪五十年代从苏联和东德国家引进光学加工技术,几乎是过来的。 光学冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨,古典式抛光。


加工效率低下,同时对操作者的技术要求较高,每个操作者都要经过多年的技术岗位培训才能正式上岗工作。技术较好的工人可以从加工毛坯到抛光,独自完成全线的工作。这时的光学冷加工主要依靠技术工人的技能和经验加工零件,而工艺设计的作用在这个时期不是非常重要的。


溅射(或阴极喷涂)和蒸发是用于薄膜沉积的常用的PVD方法。

在PVD技术中,释放或碰撞的热物理过程将要沉积的材料(目标)转化为原子粒子,然后在真空环境中在气态等离子体条件下将原子粒子定向到基材,通过冷凝或化学反应生成物理涂层。投射原子的积累。该技术的结果是,要沉积的材料类型具有更高的灵活性,并且可以更好地控制沉积膜的成分。连接到高压电源和真空室的两个电极构成了PVD反应器。





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