化学气相沉积镀膜常用指南「多图」

化学气相沉积镀膜的原材料，绝大部分属于储量非常小的稀有金属。这些稀有金属随着科技的发展，其需求长期看涨。随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，这些具有优异物理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。

拉奇纳米真空汽相沉积设备(CVD),以被多数科研单位、研究所、大专院校所采用并发表多项国际学术文章。

东莞拉奇纳米科技有限公司,是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。

光学镀膜材料的原材料，绝大部分属于储量非常小的稀有金属。膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了。这些稀有金属随着科技的发展，其需求长期看涨。随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，随着我们生活水平的提高，这些具有优异物理特性的金属将为我们的生活带来更多的精彩。

      派瑞林纳米涂层式一种高分子热可塑性聚合体，由单体对二在真空状态下均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。Parylene在电子产品领域的优点:防盐雾，防氧化，防潮湿三防性能优异同时在酷热及低温-270摄氏度条件下均保持良好的防护特性。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀coating形成膜层，薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范围内任意调整。由于在真空状态下操作蒸气无孔不入效率，可形成无膜层， 并地控制膜层厚度，且各处厚度均匀一致，使派瑞林（(Parylene Coating)涂层的覆被特性远优于Epoxy（电泳）、Spary（喷涂）、Dipper（含浸）等涂装方式。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。*聚合生长的成膜方式阻止了离子在涂层和基板界面的扩散，消除了常见的涂层下枝状腐蚀。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。