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离化PVD技术通过将成膜材料高度电离化形成膜材料离子，从而增加膜材料离子的沉积动能，并使之在高化学活性状态下沉积薄膜的技术，包括离子镀、离子束沉积和离子束辅助沉积三类。

离化PVD过程大多是蒸发/溅射（气相物质激发）与等离子体离化过程（赋能、）的交叉结合。

蒸发镀膜是依靠源材料的晶格振动能克服逸出功，从而形成沉积粒子的热发射，即：外加能量（电阻/电子束/激光/电弧/射频）赋予材料较高的晶格振动能，使其克服固有的逸出功逸出粒子。而溅射是依靠高能离子输入动能，借助源材料中粒子间的弹性碰撞，致使更高动能粒子逸出。离化PVD 是以其它手段激发沉积物质粒子，然后使之与高度电离的等离子体交互作用（类似 PECVD），促使沉积粒子离化，使之既可被电场加速而获得更高动能，同时在低温状态下具有高化学活性。

直流等离子体化学气相沉积（DC-PCVD）

DC-PCVD是利用高压直流负偏压（-1～-5kV），使低压反应气体发生辉光放电产生等离子体，等离子体在电场作用下轰击工件，并在工件表面沉积成膜。

直流等离子体比较简单，工件处于阴极电位，受其外形、大小的影响，使电场分布不均匀，在阴极四周压降，电场强度，正由于有这一特点，所以化学反应也集中在阴极工件表面，加强了沉积效率，避免了反应物质在器壁上的消耗。缺点是不导电的基体或薄膜不能应用。由于阴极上电荷的积累会排斥进一步的沉积，并会造成积累放电，破坏正常的反应。

PVD是一种出色的真空镀膜工艺，可改善耐磨性和耐腐蚀性。它对于功能性应用非常需要，例如工具，装饰件，光学增强，模具，模具和刀片。这些只是各种各样已经建立好的应用程序的几个例子。

此技术中使用的设备维护成本低，并且对环境无害。PVD涂层的好处很多。如PVD可以提供真正***的优势，从而增加产品的耐用性和价值。沉积技术在机加工过程中具有重要作用。

机加工工具可能是紧急的应用之一，需要一些特性，例如高温下的硬度，高耐磨性，化学稳定性，韧性和刚度。此外，PVD还能够生产具有优异附着力，均匀层，设计结构，渐变特性，可控形态，材料和特性的高度多样性的涂层。