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四种常见的真空镀膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化镁MgF2，LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟合金CuInGa，铜铟硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

当前，在我国使用的镀膜玻璃主要有以下几种方式生产：　　　

1．电子***蒸发镀膜机：利用热蒸发器的真空镀膜机生产镀膜玻璃，因整体生产是断续进行的，清洗后的部分玻璃常常需在车间中等待一段时间后方可进行镀膜室镀膜。

当前，在我国使用的镀膜玻璃主要：

1．真空蒸发镀膜：利用热蒸发器的真空镀膜机生产镀膜玻璃，因整体生产是断续进行的，清洗后的部分玻璃常常需在车间中等待一段时间后方可进行镀膜室镀膜，此时，玻璃会受到二次污染，致使被污染部分镀上的膜层易脱落，膜层的均匀性差，易有彩虹色差及反射率偏高，并且玻璃只镀一层膜，极易在空气中变色且不能生产大规格玻璃。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。因此，建设部作出明确规定，此类镀膜玻璃不易作幕墙玻璃。

镀膜前的准备工作

①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。

②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。

③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。

以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是要形成表面光亮的金属膜，要求基材具有较好的表面平滑度。物质无论是固体还是液体，凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门，也适合于真空对洁净环境的要求。