石墨烯化学气相沉积***,拉奇纳米镀膜设备

一、镀膜作业步骤:1.镀膜前洗净。2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜）。3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录。4.上伞,将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片。5.区分需要镀膜镜片种类面别。6.清洁坩埚电子***周围用铜刷刷,吸,并添加药材。7.确认晶振片,监控片是否OK在新的位置。8.确认机台内无杂物,后关门排气加热。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。9.镀膜选取相应的制程。10.人员镀膜过程中进行监控。11.下伞，将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒。12.抽检，主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁。13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计。14.伞架每圈抽1PCS共5圈。15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)。16.光谱量测OK后可送出。

膜层结合力强，在真空电镀加工过程中，有部分电子撞击到基材表面，表面原子，并且产生清洁的作用，而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时，有更多的能量可以传递到基材上，产生更多的热能，使被电子的原子加速运动，与部分镀材原子更早互相溶合到一起，其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜，加强了膜层与基材的结合力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是***T微扇柱状磁铁的组合。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。镀膜机真空机械选择了解被抽气体成分，气体中含不含可凝蒸气，有无颗粒灰尘，有无腐蚀性等。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。