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真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。

为什么需要进行真空镀膜呢？这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术，主要是为了使产品表面具有耐磨损耐高温，耐腐蚀等优于产品本身的性能，从而提高产品的质量，延长加工产品的使用寿命，不仅如此，还可以节约能源，获得更为显著的技术经济效益。还有使用WaterBasic电子零件和金属配件，可使它们在长期库存，工件会保持没有硫化且寿命超过十年。

实际应用中，我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。磁控溅射镀主要用于金属产品，蒸发镀主要用于塑胶产品，光学离子镀主要用于璃玻产品。真空电镀为磁控溅射镀，以电镀不锈钢产品材质为主，可以电镀金色、玫瑰金色、黑色、***色、蓝色等颜色，质量稳定，品质保障。

IP硬膜：颜色为不锈钢色厚度可达3-6um，硬度达1000HV以上耐磨损，不易刮花DLC膜层：颜色有灰色、黑色 厚度1-3um低摩擦系数，耐磨损，不易刮花AFP膜系：防指纹***，膜层透明，不改变底色厚度为10～200纳米技术成熟，可应用于任何表面

功能膜层 硬质功能膜广泛用于手机外观件、刀具、钻嘴、模具、工具、燃气轮机叶片，可镀CrN、TiAlCN、TiCN、TiAlN等膜层。

(2)各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。纳米技术是一门交叉性很强的综合学科，研究的内容涉及现代科技的广阔领域。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

(3)蒸发或溅射出来的制膜材料，在与待镀的工件生成薄膜的过程中，对其膜厚可进行比较的测量和控制，从而保证膜厚的均匀性。

随着信息产业的不断发展，磁性元件越来越趋向于小型化，3-5㎜的软磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不断被应用，对磁材的防护提出了新的要求。纳米镀膜厂商，能够对内部PCBA进行有效的防水防潮防腐蚀，将PCBA线路板进行简单的浸泡，即可在洁面仪电路板表面形成一层超薄防护膜，有效的防止水气、盐雾、有害气体、腐蚀性液体等物质对电路板电子元器件和损害。小型软磁芯作饶线器件时，经聚对二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的电压，由于聚对二摩擦系数低，饶成操会更滑溜，不伤线，更便于操作，稀土钕铁硼永磁材料是一种强磁材料，但这种材料在空气中很不稳定，尺寸较大的通常用电镀或环氧电泳漆作防护涂层，尺寸较小的磁材，特别是环型和筒形的磁材，已不能用上述传统方法实现可靠防护，满足使用要求。Parylene***的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型超小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。