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镀层材料符合RoHS标准及又能环保。厚度根据客户对膜层级别的不同要求而定外观：膜层不改变基体镀膜前的状态(抛光、拉丝或喷砂)基体：不锈钢、钛合金、钨钢、陶瓷、合金等均可,部分基体需要在真空镀膜前进行水镀处理金色膜系：真空离子镀金(IPG)，膜层颜色包括1N14、2N18色。还有使用Water Basic电子零件和金属配件，可使它们在长期库存，工件会保持没有硫化且寿命超过十年。此外纳米镀膜可以<300℃，使用不会氧化变色。此项技术打破传统工艺，可以耐300度以下高温不会出现氧化变色问题，从而可以实现SMT工艺时免贴胶带过炉，镀银取代镀金大大提高您的良品率，为您节省开支。

晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。

主要分类有两个大种类：

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等

一、对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

(2)各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

(3)蒸发或溅射出来的制膜材料，在与待镀的工件生成薄膜的过程中，对其膜厚可进行比较的测量和控制，从而保证膜厚的均匀性。

减反射镀膜意义重大,大幅提升用户体验:现阶段几乎所有手机、平板电脑屏幕在阳光下的可视效果都非常差,主要是表面盖板玻璃(主要成分为SiO2和Al2O3)折射率较高,超过1.5,即使是好的面板反射率仍有5%。塑胶真空电镀的优势有哪些：与金属制件相比，塑胶电镀制品不仅可以实现很好的金属质感，而且能减轻制品重量，在改善塑胶外观及装饰性的同时，也改善了其在电、热及耐蚀等方面的性能，提高了其表面机械强度。想要提高可见度,有两种方法,一是提高屏幕亮度,二是降低屏幕反射;但前者会增加耗电量,进一步缩短本已不长的智能终端待机时间。所以在改变玻璃表面采用减反射技术意义重大,可降低电子产品在室内外的反射光,减少电量消耗,大幅提升用户体验。