化学气相沉积镀膜来电咨询

在光学镀膜材料的应用上，镀膜靶材是***技术，通过不同靶材中含有的稀有金属不同而形成不同的光学镀膜材料，普遍应用的稀有金属有氟化钇、氟化镨、锗、硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆、钴、、硒等金属。在反射镜的光学材料中普遍用到铜、钼、硅、锗等金属，在输出端和透射光学原件中锗、、硒化锌等应用广泛。Parylene涂层能在磁性材料表面形成均匀一致的绝缘防护涂层。

随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，这些具有优异物理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。

纳米镀膜

直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是要形成表面光亮的金属膜，要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，要采用直接蒸镀法，在镀铝前需***行表面涂布。另外，在蒸镀过程中基材的挥发物要少。钢带镀膜前可经电子束预热表面活化，镀膜纯度高，没有中间硬脆的合金层，可以一次冲压成型，甚至可以卷成直经很小的管而不脱落镀层。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性，它主要适合于蒸镀塑料薄膜，也可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有限度。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 

周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。随着真空技术和材料技术的发展以及钢铁行业对发展新型钢材的迫切要求，带钢真空镀膜正成为带钢表面处理的一种重要的工艺技术，具有很好的发展前景。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。