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 对于已清洗过、不能存放于大气环境的洁净表面，应采用密封容器或保洁箱储存，减少尘垢。在新氧化铝容器中储存玻璃底板，可以将对烃类蒸汽的吸附降到Z低。这样的容器更倾向于吸附烃类。对于高不稳定性、对水汽敏感的真空镀膜加工，一般应储存在真空干燥箱中。

薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。

       高频感应蒸发源蒸镀法：

       高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央，使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（对铁磁体)，使蒸发材料升温，直至气化蒸发。

       优点：

      1、蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右。

      2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。

      3、蒸发材料是金属时，蒸发材料可产生热量。

      4、蒸发源一次装料，无需送料机构，温度容易控制，操作简单。

       目前，薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而，随着集成电路的密集及微型化，精密机械的精度提升，对于镀膜厚度要求愈渐严苛。