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真空镀膜加工的常用办法

（1）真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

（2）阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体（如）通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子碰击阴极，使其射出原子，溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。

真空镀膜加工适用于那些地方

镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等纠正眼镜上运用。

镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射，添加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。

真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

有机化学液相沉积（CVD）。它是以化学变化的方法制做塑料薄膜，基本原理是一定溫度下，将带有制膜原材料的反映汽体通到基片上并被吸咐，在基片上造成化学变化产生核，接着反映反应物摆脱基片表层持续外扩散产生塑料薄膜。束流沉积镀，融合了离子注入与液相沉积镀膜技术性的正离子表层复合型解决技术性，是一种利用离化的颗粒做为蒸镀原材料，在较为低的基片溫度下，产生具备优良特点塑料薄膜的技术性。