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真空镀膜加工的滤片透射率

由于全介质多层反射膜只在有限的区域是有效的，因此滤光片透射率峰值的两边会出现旁通带．在大多数应用中需要将它们弄掉．短波旁通带只要在滤光片上叠加一块长波通吸收玻璃滤光片便很容易去掉，但是很不容易得到短波通吸收滤光片、有些可供利用的吸收滤光片虽然能有效地长波旁通带,但因其短波方面的透射率太低,大大降低了整个滤光片的峰值透射率．解决这个问题的满意的办法是干.脆不用吸收滤光片，而是把后面将要讨论的诱导透射滤光片作为截止滤光片使用、由于诱导透射滤光片没有长波旁通

镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

真空镀膜加工的常用办法

（1）真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

（2）阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体（如）通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子碰击阴极，使其射出原子，溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。

真空镀膜加工适用于那些地方

镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等纠正眼镜上运用。

镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射，添加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。