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真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。

真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。

真空镀膜机组成结构是怎样的？一台完整的真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能。

真空镀膜机的主体是真空腔，真空腔大小是由加工产品所决定，它的大小能定制，腔体一般是用不锈钢材料制作，要求结实耐用不生锈等。真空腔有许多连接阀用来连接各种辅助泵。

抽真空系统是镀膜机真空系统的一个重要组成部分，真空度的高低直接影响产品的镀膜效果，真空度由真空测试系统取得数据。

成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。