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物理气相沉积（PVD）

真空蒸发：通过加热材料使其在真空中蒸发，并在基材上凝结成膜。

磁控溅射：利用磁场增强等离子体密度，使靶材被离子轰击，溅射出的原子在基材上沉积形成薄膜。

离子镀：在真空中通过等离子体辅助，使镀层材料离化并在基材表面沉积。

化学气相沉积（CVD）

热CVD：利用高温加热反应气体进行沉积。

等离子增强CVD（PECVD）：通过等离子体促进反应气体分解，提高沉积速率。

低压CVD（LPCVD）：在低压环境下进行沉积，适用于大面积均匀薄膜。