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成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，离子蒸发镀膜可以提高膜层的致密性和结合力及均匀性。镀膜加工在影响产品质量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)。

真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。

真空镀膜工艺则有所不同，真空镀膜是真空罩内进行的但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的，真空镀膜发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)吸引下，真空镀膜以很高的速度注入到工件表面。

手机真空镀膜加工的应用

按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710Pa-以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以保证预熔中基片不被镀上。当真空度达到要求后，采用/4l极值发控制光学厚度的方法进行镀制，可以选择前面给出的两种膜系中的任意一个膜系镀膜，将控制波长放在632.8nm或其他波长。首先在玻璃基片上镀制H层。随着膜层增厚，放大器指示的光电流将下降。当光电流数值刚刚开始回升时，立即将挡板挡上。