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磁控溅射镀膜机

各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

真空设备定制|真空设备的适用范围，真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类

　　1.建筑五金：卫浴五金(如水).门锁.门拉手.卫浴、门锁、五金合叶、家具等

　　2.制表业：可用于表壳.表带的镀膜、水晶制品

　　3.其它小五金：皮革五金.不锈钢餐具.眼镜框、刀具、模具等.

东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

真空蒸发镀膜设备功能特点，真空室内蒸发物质的蒸气与固体或液体平衡过程中所表现出来的压力。

1.高熔点：因为镀料的蒸发温度(饱和蒸气压为1Pa时的温度)多数为1000-2000℃，所以蒸发源材料的熔点高于此温度

2.饱和蒸气压低：主要是为了防止和减少高温下蒸发源材料会随着镀料蒸发而成为杂质进入蒸镀膜层中。

3.化学性能稳定，高温下不与蒸发材料反应：但是在电阻蒸发中比较容易出现的问题是，高温下某些蒸发源材料与镀料之间会发生反应和扩散

镀膜有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。