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真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有障碍。

镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

真空镀膜的物理过程

基本原理可分为三个工艺步骤：

镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

镀料粒子在基片表面的沉积

　真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等）。

真空镀膜技术主要应用于哪些领域呢？

1.在装饰品方面

随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰等装饰品精饰得五彩缤纷。

2.在模具等金属切削加工工具方面

在生活中，我们会看到金色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。

3.在平板显示器中

所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜。