东莞气相沉积设备价格常用指南 东莞拉奇纳米

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。

Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由***的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。

Parylene 材料

Parylene N，聚对二***。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。

性能和用途

Parylene N是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有Parylene中穿透能力高的一种，有很好的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合ISO-10993生物试验要求，符合UDP第六类塑料的生物试验要求。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。

真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。