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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。6、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜7、不锈钢管和板8、家具、灯具、宾馆用具。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。镀膜技术在飞机防护涂层方面的应用飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类。

真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

该设备具有：结构合理，膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产、操作方便，能耗低性能稳定等优点。有机高分子镀膜设备制造商

真空镀膜机是指需要在各种高真空状态下进行的涂层，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积组成。

真空镀膜机也是目前制造真空条件使用的真空设备，一般由真空室、真空机、电控盒三部分组成。镀膜设备的清洗：设备使用一周后，涂层材料不仅涂在工件表面，而且由于不定向，还涂在工作室的衬板上，涂层厚度越来越厚。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。这一层的膜厚由于组织和缠绕而松散，吸收了大量气体，导致真空镀膜设备泵送越来越慢，所以这个时候工作室和衬板都要清理干净。如果不必要地拆下零件，可以用砂纸打磨。

真空镀膜设备膜层色泽不均：(1)底漆喷涂得不均匀。应改进底漆的施涂方法。(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度。真空镀膜设备膜层发皱、龟裂：(1)底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。(2)涂料的粘度太高。应适当降低。(3)蒸发速度太快。应适当减慢。(4)膜层太厚。应适当缩短溅射时间。(5)镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间。