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坪山工具镀膜设备点击了解更多 拉奇纳米

发布时间:2021-11-13 21:28:00        作者:拉奇纳米镀膜







真空镀膜机-操作步骤

一、电控柜的操作;

开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。

观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子***电源。





在选择真空镀膜设备时会考虑设备的各种性能特点,结合自身所镀产品的需要综合考核

根据设备使用特点,可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

真空镀膜设备充气方式的选择。

根据工艺要求选择镀制方式及形式。

夹具运转形式,用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。

根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。



真空镀膜设备膜层色泽不均:(1)底漆喷涂得不均匀。同时由于PVD是一种干法镀技术,可以避免湿法镀时酸性或碱性电解质溶液残留在磁体孔隙内和电镀过程中磁体吸氢而导致镀层脆裂的缺点。应改进底漆的施涂方法。(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度。真空镀膜设备膜层发皱、龟裂:(1)底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。(2)涂料的粘度太高。应适当降低。(3)蒸发速度太快。应适当减慢。(4)膜层太厚。应适当缩短溅射时间。(5)镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间。


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