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真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。由于真空热处理时，工件基本不氧化，钢件不脱碳，采用通气对流加热方式还可使加热均匀，减少表面和心部的温差，从而也减少畸变。目前它已成为工模具不可或缺和的热处理工艺。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

  在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类。

真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

该设备具有：结构合理，膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产、操作方便，能耗低性能稳定等优点。纳米镀膜工艺

装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种，它们主要起提高膜层的结合力，降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度，保护金属膜层的作用。

真空镀膜设备对底涂层有何要求。

1、对镀件与镀膜层有良好的接触性能，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

4、与面涂层有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。