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发布时间：2021-11-12 18:20:00 作者：拉奇纳米镀膜
真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，分子束外延，激光溅射沉积等很多种。有机高分子镀膜设备价格
真空镀膜机涂层材料与被加工材料之间的摩擦系数较小，所以真空镀膜机涂层刀具的切削力小于未涂层刀具。有机高分子镀膜设备价格
真空镀膜机表面涂层材料具有很高的耐磨性和硬度，且耐高温。和未涂层的刀具比，涂层刀具允许采用较高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的寿命。有机高分子镀膜设备价格
在选择真空镀膜设备时会考虑设备的各种性能特点，结合自身所镀产品的需要综合考核
根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。
真空镀膜设备充气方式的选择。
根据工艺要求选择镀制方式及形式。
夹具运转形式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
真空镀膜设备膜层附着力不良：(1)镀件除油脱脂不干净。应加强镀前处理。(2)真空室内不清洁。而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。应清洗真空室。值得注意的是，在装靶和拆靶的过程中，严禁用手或不干净的物体与磁控源接触，以保证磁控源具有较高的清洁度，这是提高膜层结合力的重要措施之一。(3)夹具不清洁。应清洗夹具。(4)底涂料选用不当。应更换涂料。(5)溅射工艺条件控制不当。应改进溅射工艺条件。
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