饰品真空镀膜设备承诺守信 拉奇纳米镀膜设备

PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物理气相沉积等。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜。

真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。真空电镀用这种工艺形成的镀层，真空电镀与零件外表既无牢固的化学结合。镀膜技术在防伪技术中的应用防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式。饰品真空镀膜设备

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能，则这一技术又是真空镀膜处理技术中的重要组成部分。同时由于PVD是一种干法镀技术,可以避免湿法镀时酸性或碱性电解质溶液残留在磁体孔隙内和电镀过程中磁体吸氢而导致镀层脆裂的缺点。

真空镀膜的操作规程

1．在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应注意水压。

2．在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3．在用电子***镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃用铅玻璃。

4．镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。

8．工作完毕应断电、断水。