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蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之知一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。镀制效果有：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴、七彩等。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。简言之，蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法，把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，分子束外延，激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。平常我们还应当注意以下几点：

1、真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护；

2、保证设施设备及操作环境清洁。如材料、样品放置地环境要求，环境温度湿度要求等；

3、降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。

真空镀膜设备涂层刀具的后处理工艺开始受到人们的广泛关注。

1、使用真空镀膜机涂层刀具，零件已加工表面质量较好。

2、真空镀膜机涂层材料与被加工材料之间的摩擦系数较小，所以真空镀膜机涂层刀具的切削力小于未涂层刀具。

3、涂层刀具综合性能良好，涂层硬质合金刀片有较好的通用性，一种涂层硬质的刀片具有较宽的使用范围。

4、真空镀膜机表面涂层材料具有很高的耐磨性和硬度，且耐高温。和未涂层的刀具比，涂层刀具允许采用较高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的寿命。