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第7年 |    
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虎门parylene镀膜技术优选企业【拉奇纳米】

发布时间:2020-12-19 07:22:00        作者:拉奇纳米镀膜







四种常见的真空镀膜材料


1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物:氟化钕NbF3,BaF2,氟化CeF3,氟化镁MgF2,LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物:硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料:高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟合金CuInGa,铜铟硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。Parylene特别适合用于铁氧体材料(磁环、磁芯)等电子组件的镀膜,镀膜后的电子组件其涂膜附着力强、耐磨性好、硬度高、抗高电压绝缘性强,漆膜外观细腻均匀、柔滑、触感***。





实践证明,电子束钢带真空镀膜具有很多优点:

(1)可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制。能量密度很高的电子束可以使镀膜材在很短的时间达到3000℃~6000℃。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,也就是我们俗称的真空镀膜。因此,除了热镀锌中常见的镀锌、铝、锡之外,几乎所有的金属材料都可以蒸镀,还可镀种类众多的金属氮化膜,金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。这为发展新型带钢材料提供了很大的自由度。

(2)镀膜材料利用率高,环境污染小。真空镀膜属干式镀膜,没有有害液体、气体的产生。





镀材范围广,由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。是被镇基材直接通过真空镀膜机,将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。不像五金电镀加工由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。

高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。高真空离子镀,又称高真空镀膜加工。?传感器和换能器:自动化控制和恶劣环境下使用的传感器、换能器,Parylene涂层防护可以提高环境适应性和可靠性,涂层无,且具有防潮功能。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法,做出来的商品金属质感强,表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,可选择原料种类多,这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。


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