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镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用。在生活中咱们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。

（1）金黄色的是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层。TiN是一代运用广泛的硬质层资料。

（2）黑色的是在切削东西上涂了TiC、CrN涂层。

（3）钴铜色的是在刀具上镀涂了TiALN涂层。

20世界80年代早期随着等离子体辅助PVD工艺的显露，CVD在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有非常好的渗入特性，其在CVI、ALE等领域的工艺中有着很好的应用前景，主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。

金属有机化合物CVD（MOCVD）工艺被广泛用于电子工业，例如生产AI和GaAs膜，当用于生长单晶材料膜时，这种工艺称为金属有机气相外延（MDVPE）。

原子层外延（ALE）CVD是一种CVD衍生方法，可以控制膜的成长，现在该工艺已用于生产电荧光膜。

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以下是制备的必要条件：

①  在沉积温度下，反应物具有足够的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室；

② 反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的；

③ 沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压。

CVD技术是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂·层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域，其工艺成本具体而定。

随着市场和研究人员的要求，随着基于传统工艺的新系统的出现，新的涂料性能得到了发展。即使通过蒸发工艺获得的沉积速率是理想的，但事实是，溅射沉积技术在质量和沉积速率方面取得了无疑的进步，响应了对此领域感兴趣的行业和研究人员的需求，甚至用作中间层，用于通过化学气相沉积（CVD）获得的其他涂层。

CVD是另一种在真空下沉积的方法，并且是使待沉积材料中的挥发性化合物与其他气体发生化学反应的过程，以产生沉积在基材上的非挥发性固体。