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真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。　　

　真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。

据我国真空镀膜设备行业发展分析，在国际社会将二氧化碳、排放量的大小与国家对环境负责任形象直接相提并论的今天，节能减排已经是关系到国家经济、生存环境是否可持续发展的大问题。现对2016年我国真空镀膜行业发展趋势分析。发达国家的集热能量使用数据显示，年平均集热用水使用能量所消耗的电力，占国家年度总电力消耗的 1/4;加之世界传统能源的日趋减少。

PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

离子镀膜技术是PVD技术的一种，是指在PVD沉积过程中，被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上。由于离子镀过程中，离子的能量更强，离子绕射性更好，膜层的结合力更好，膜层致密性也更好，膜层性能更好。