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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

真空镀膜机需要考虑哪些因素

1.炉体可用不锈钢、碳钢或其组合材料制成。

2.根据工艺要求，选择不同规格和型号的镀膜设备，包括电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3.夹具操作有旋转、旋转和旋转+旋转模式。用户可根据基板的尺寸和形状提出相应的要求。转速范围及精度：普通可调和变频调速。

真空镀膜机扩散泵维修与保养  

扩散泵是真空镀膜机很重要的部件，大家都知道，真空镀膜机是在真空状态下工作的，那么真空腔体要达到真空，扩散泵的。然而要保证真空镀膜机长期稳定工作，扩散泵保养和维护是的环节。

1、扩散泵工作过程中冷却水必须保证畅通，停止加热后必须保证泵工作液已完全冷却后方可关闭冷却水。

2、扩散泵停止工作时，泵内应保持真空状态，以免泵油劣化。

真空镀膜机镀前后如何处理？

镀后处理：

1、钝化处理

所谓钝化处理是指在一定的溶液中进行化学处理，在镀层上形成一层坚实致密的、稳定性高的薄膜的表面处理方法.钝化使镀层耐蚀性大大提高并能增加表面光泽和抗污染能力。这种方法用途很广，镀Zn、Cu及Ag等后，都可进行钝化处理。

2、除氢处理

有些金属如锌，在电沉积过程中，除自身沉积出来外，还会析出一部分氢，这部分氢渗入镀层中，使镀件产生脆性，甚至断裂，称为氢脆。为了消除氢脆，往往在电镀后，使镀件在一定的温度下热处理数小时，称为除氢处理。