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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

真空镀膜机镀前后如何处理？镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面，为后面获得高质量镀层作准备，要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作。

步骤如下：

1、使表面粗糙度达到一定要求，可通过表面磨光、抛光等工艺方法来实现;

2、去油脱脂，可采用溶剂溶解以及化学、电化学等方法来实现;

3、除锈，可用机械、酸洗以及电化学方法除锈;

4、活化处理，一般在弱酸中侵蚀一定时间进行镀前活化处理。

　　真空镀膜设备的真空系统构成：

　　目前在各种真空镀膜设备上所配用的真空系统不但结构各不相同，而且系统的抽气特性也随其工作对象的不同而有很大的差别，归纳起来主要有如下几种系统：通用真空系统、超高真空系统、制冷机低温泵系统。

　　一、通用真空系统

　　系统的主泵是油扩散泵，泵上方设有水冷挡板(阱)，主泵的前级泵为机械泵。这种系统的工作压强在10-2～10-4Pa的范围内。

　　二、超高真空系统

　　在上述真空系统中加装液氮冷阱或钛泵，就可以使镀膜室真空度提高到10-6Pa以上，从而得到超高真空系统。由于该系统仍采用油扩散泵，所以还是有油的系统。

　　镀膜机采用分子泵系统可以获得十分清洁的真空，有利于膜质量的提高。分子泵抽速很大，可以缩短工艺周期。

　　三、制冷机低温泵系统

　　使用低温泵抽气系统的真空镀膜设备具有一系列优点：无选择性气体、无碳氢化合物污染、具有较大的抽气速率、可以获得较低的极限压力、操作简单、蓬盘维护方便。