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真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点：磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行，从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，并从靶表面飞溅出去。

在近几十年的发展中，永磁体逐渐被使用，而线圈磁体很少被使用。

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

真空镀膜加工之前应注意什么？

不锈钢首饰因其可塑性强、颜色多样等特点，可采用真空镀膜加工制作，在时尚首饰行业中兴起。为了使不锈钢首饰在电镀前具有良好的表面光泽，应注意以下几点：

不锈钢首饰零件的清洗和清洁更为复杂。除清洁明显表面外，一定要对一些不明显的缝隙（如接焊、折叠、拐角等）进行打蜡、涂胶、除锈、除尘和清洁剂清洗，否则容易引起变色。

真空镀膜加工都使用那些工艺

电镀：电镀一般分为很多类，今天我们特别来说两类Z常用而且反响较好的工艺   -----PVD镀膜和水电镀

真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，然后进入炉膛，检查接触是否良好，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品

       真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的涂层，目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层的常用制备方法，如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法（PVD），是基本的涂层制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是涂层制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。