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真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

真空镀膜设备在工业生产中应用广泛，无论是大小产品、金属产品或塑料产品，还是陶瓷、芯片、线路板、玻璃等产品，基本上都需要进行表面处理镀膜。在涂料就方式而言，比较常见的是采用蒸发镀或磁控豺镀或离子镀。

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请问什么是PVD镀膜? 什么是PVD镀膜机?

PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的，它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

       激光束蒸发源蒸镀法：

      采用激光束蒸发源的蒸镀技术是一种理想的涂层制备方法，是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种涂层制备技术，激光器置于真空室之外，高能量的激光束透过窗口进入真空室中，经透镜聚焦之后照射到靶材上，使之加热气化蒸发并沉积在基片上。

      优点：

      1、简化了真空室内部的空间布置，减少了加热源的放气，而且还可避免蒸发气对被镀材料的污染，达到了涂层纯洁的目的。

      2、激光加热可以达到极高的温度，利用激光束加热能够对某些合金或化合物进行快速蒸发。这对于保证涂层的成分，防止涂层的分馏或分解也是极其有用的。