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石碣硅胶纳米镀膜设备免费咨询「拉奇纳米」

发布时间:2022-06-15 21:48:00        作者:拉奇纳米镀膜







影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

气体不均匀性的影响

一般来说气体不均匀可以由两种情况产生,一种是送气不均匀,另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气,可认为是均匀抽气;而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气,属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气,真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时,气压从前到后逐渐减小,而后分子泵关只开前分子泵时,气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。



真空镀膜机器设备的主泵形式分成二种,各自为有油真空泵和无油超滤装置,这二种系统软件的工作中形式全是不一样的;有机油超滤装置基本上是以油扩散泵为主泵,前面泵选用真空泵或是罗茨真空泵。我们知道,油扩散泵的工作压力方向较为大,与此同时抽真空速度十分的高,可以做到每秒钟十几万升。

无油超滤装置是应用分子泵和低温泵做为主泵的,其特性关键集中化在可以持续很多抽真空,能够得到清理无油的极高真空泵。


 PVD真空镀膜机器设备所镀制的渗氮错是一种淡黄色的膜层,适用一些氮化钛不太合适涂敷的行业。具备高耐腐蚀特性,优良的光洁表面及其可塑性。适用表面装饰膜层的PVD镀膜机器设备主要是运用在一些家庭装五金产品上,此外装饰艺术膜层一样也可以具有降低表面损坏、抵御表面浸蚀、增加商品使用寿命的功效。   PVD真空镀膜机的正离子镀膜层不容易脱落、退色,表面不容易产生污渍,清洗简易,并且镀膜低成本。




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